Наука 10 октября 2026, 06:37 МСК

ASML и Carl Zeiss начали разработку литографической системы Hyper NA

ASML совместно с Carl Zeiss приступила к разработке литографии нового поколения Hyper NA, которая должна превзойти нынешние установки High-NA EUV.

Проект находится на ранней стадии, на его создание может уйти около десяти лет. Окончательного решения о запуске производства оборудования ASML пока не приняла.

Ожидается, что Hyper NA позволит работать со структурами размером около 5 нм, а разрешение вырастет более чем на треть по сравнению с действующим оборудованием High-NA EUV.

Литография остаётся одним из главных технологических ограничений для производителей чипов, которые стремятся повышать производительность и снижать энергопотребление. Carl Zeiss уже работает над зеркалами с необходимой точностью, а ASML планирует использовать часть существующих решений, включая источник света.

• Срок разработки — около 10 лет
• Размер элементов — около 5 нм
• Разрешение выше более чем на треть