Наука 14 октября 2026, 12:09 МСК

Китайская Landau Flint показала прототип собственного источника EUV-излучения

Компания Landau Flint впервые публично представила прототип источника EUV-излучения для литографии; до серийного выпуска, по её оценке, ещё 3–5 лет.

Разработку показали на 26-й Китайской международной промышленной выставке в Шанхае. По данным Liberation Daily, уровень локализации системы достигает 90%, большинство ключевых компонентов созданы самостоятельно.

Источник EUV — один из трёх основных компонентов литографических установок для чипов с техпроцессом 7 нм и меньше. Эти технологии контролировали зарубежные производители, а для китайских компаний они были закрыты из-за экспортных ограничений. Представители компании говорят, что прототип уже можно использовать для испытаний по экспонированию чипов.

У маломощной установки FlintNano LPP-OXXO заявлены лазер на 1000 Вт, мощность EUV-излучения свыше 15 Вт и непрерывная работа более 100 часов. Для промышленной эксплуатации этого недостаточно: коммерческим системам нужны источники мощностью в сотни ватт. Главные задачи — повысить мощность и обеспечить длительную стабильную работу.

Landau Flint основана в 2024 году командой, связанной с лабораторией газоразрядной плазмы Университета Цинхуа. В 2025–2026 годах она привлекла несколько раундов финансирования, включая инвестиции Woyan Capital и SMIC Capital.

• Локализация системы — 90%
• Заявлено более 15 Вт EUV при лазере 1000 Вт
• До серии — 3–5 лет