ТехноСводка

Наука

Langdao Silex показала прототип китайского источника EUV-излучения

Китайская Langdao Silex впервые публично продемонстрировала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии, но серийный выпуск возможен лишь через 3–5 лет.

По словам компании, 90 % компонентов системы изготовлены в Китае, а большинство ключевых узлов разработано внутри компании. Маломощная установка FlintNano LPP-OXXO использует плазму, получаемую под действием лазера. Заявлено: мощность приводного лазера 1000 Вт, выходная мощность EUV более 15 Вт, эффективность преобразования выше 2 %, непрерывная работа свыше 100 часов.

Для серии высокомощных источников FlintMicro-LPP завершена принципиальная проверка технологии, а FlintNano-LPP находится на стадии продуктовой разработки. Главные трудности — рост мощности и долгосрочная стабильность.

Разрыв с коммерческими системами остаётся значительным: для промышленных установок обычно нужны источники в несколько сотен ватт. ASML достигла 250 Вт в 2018 году, а в апреле 2025 года показала источник на 1000 Вт. Кроме того, нужны прецизионная оптика, точное позиционирование пластин и сложная интеграция: установки ASML состоят из сотен тысяч компонентов от более чем 800 поставщиков.

  • Заявленная мощность EUV — более 15 Вт
  • 90 % компонентов произведено в Китае
  • До серийного выпуска — 3–5 лет

Источники

Текст подготовлен автоматически по материалам источников и может содержать неточности.