Наука 16 октября 2026, 15:25 МСК

В ННГУ запатентовали способ очистки нанопорошка диоксида кремния для микроэлектроники

Учёные Университета Лобачевского запатентовали глубокую очистку нанопорошка диоксида кремния, на основе которого делают суспензии для полировки полупроводниковых пластин.

Патент получила лаборатория инженерной химии НИИ химии ННГУ имени Лобачевского. Технология позволяет получать частицы заданного размера и формы с высокой однородностью, стабильностью и низким содержанием примесей. Материал предназначен для химико-механической полировки пластин и других процессов, где нужны высокочистые абразивные наноматериалы.

Работа идёт с 2024 года в рамках проекта «Новые материалы для микроэлектроники» программы «Приоритет-2030». Технологическая линия и регламент готовы, устойчивая суспензия передана на апробацию индустриальному партнёру. Сейчас проект находится на стадии опытно-технологической отработки, главное внимание уделяется стабильности при масштабировании.

Руководитель исследования Ксения Отвагина отметила потребность в отечественных аналогах зарубежных продуктов в условиях ограничений поставок. По её словам, это шаг к снижению зависимости от иностранных поставщиков.

• Проект ведётся с 2024 года по программе «Приоритет-2030»
• Суспензия передана индустриальному партнёру на апробацию